离子束：
1.液态Ga离子源；
2.加速电压：500V-30kV；
3.束流强度：0.1pA-65nA；
4.交叉点分辨率：4.0nm @ 30kV
5. 配备W、C和Pt沉积气体。
6. 配备增强刻蚀气体I2和XeF。

电子束：
1.分辨率：0.6nm @ 15kV；0.7nm @ 1kV； 1.0 nm @ 500V；
2.加速电压：200V-30kV；
3. 样品室：内径379mm ；
4. 样品台：五轴马达驱动样品台；

用于金属、半导体、电介质、多层膜结构等固体样品上制备微纳结构。高质量定点TEM样品制备。化学和晶体结构三维形态分析。离子束刻蚀、离子束沉积、电子束沉积；高分辨扫描电镜功能可对离子束加工试样进行实时观测。

EDS 牛津X-Max 80
EBSD 牛津NordlysMax3